Но не всё так просто. Излучение, получаемое за счёт генерации гармоник, очень и очень слабое — оно в миллионы раз слабее, чем в литографических сканерах ASML, использующих испарение капель олова лазером. Установка Lumiverse производит EUV-свет мощностью 1 мкВт с крайне низкой эффективностью. Выход в том, что она создаёт на маске пятно света на порядки меньшего диаметра, чем сканер ASML. Это снижает производительность сканера, но позволяет поддерживать необходимую плотность мощности для воздействия на фоторезист. По крайней мере, на первых порах настольный китайский сканер EUV можно использовать для неразрушающего контроля качества продукции или для опытного производства чипов, когда никто никуда не спешит. Кстати, 80 % заказчиков на сканер — это учёные, которые собираются экспериментировать с производством транзисторов нанометрового масштаба.

Разработчик заявляет о мировом лидерстве в области 13,5-нм HHG-технологий и планирует в ближайшее время повысить выходную мощность до 1 мВт, что позволит выйти на рынок коммерческого оборудования для контроля и метрологии полупроводников. Разработка стала возможна благодаря возвращению в Китай бывшего руководителя EUV-направления американской KMLabs и демонстрирует стремительное сокращение технологического отставания КНР в одной из самых сложных областей современной микроэлектроники.